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EQ-500SP打针泵属于推进式打针泵，注液速度可在鸿沟内进行调节，可依照试验需求差别设置差别的注液速度，知足差别试验要求的需要。打针器的容积差别，装液量有所差别，该设备标配20ml打针器。

HVC-SKJ真空腔体可用作于晶体成长炉炉腔，也可用于搭建其他真空体系。

HVC-SS高真空腔体用于自行搭建试验真空系统，如等离子溅射、CVD或ALD等试验，同时可看成高真空储蓄箱。

2英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-2可安装直径为2“的靶材，合用靶材种类较广，如金属/绝缘靶或磁性/非磁性靶材。配装有环形NdFeB永磁体在溅射头上，以保证溅射镀膜的效率和平均性。可与DC或RF电源共同使用。

1英寸高真空磁控溅射头HVMSS-SPC-1-LD可安装直径为1“的靶材。可与直流、脉冲直流和射频电源相成婚，所以可溅射百般靶材。且采取高真空的构造设计，可提高镀膜质量。

100W小型手动成亲型射频电源RF-100-LD频率为13.56MHz，专门与本司1“的磁控溅射头配用，可搭建成一套较廉价的溅射镀膜系统，用于制作非导电薄膜。