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产品分类CLASSIFICATION
混气体例二路质子GSL-2Z是用于控制一种或两种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制体例安装在挪动转移架内,管式炉不妨放在挪动转移架上面,气体控制体例的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀,不妨用于CVD体例及退火炉,用来研究气体环境对质料的影响,在半导体和集成电路物业、特种质料学科、化学物业、煤油物业、医药、环保、真空等多种领域的科研和生产中有着重要的效用,广泛应用于电子工艺设备,如扩散、氧化、外。
混气编制三路质子GSL-3Z是用于控制一种到三种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制编制安装在移动架内,管式炉不妨放在移动架上面,气体控制编制的前面板上有控制并再现气体流量的调节阀,不妨用于CVD编制及退火炉,用来考究气体境遇对资料的影响,在半导体和集成电路家产、特种资料学科、化学家产、火油家产、医药、环保、真空等多种领域的科研和出产中有着重要的效用,广泛应用于电子工艺设备,如扩散、氧化、外延
混气体例四路质子GSL-4Z是用于控制一种到四种的气体流经真空密封的管式炉,这种气体控制体例安装在移动架内,管式炉不妨放在移动架上面,气体控制体例的前面板上有控制并显示气体流量的调节阀,不妨用于CVD体例及退火炉,用来研究气体情况对材料的影响,在半导体和集成电路工业、特种材料学科、化学工业、煤油工业、医药、环保、真空等多种领域的科研和出产中有着重要的功用,广泛应用于电子工艺设备,如扩散、氧化、外延
小型两通道供气体系CGM-2F是一种紧凑型双通道微量气体混合供气体系,输入的两种不同气体通过调节压力和流量,输出一种较准确的混合性气体,可用以小型管式炉、手套箱、等离子清洗机、小型PECVD体系。
多路浮子控制供气编制GSL-3F合用于控制一种到三种气体的通入,管式炉可以置于其上,可用于CVD编制及退火炉,可用查究气体境遇对资料的影响。
精密氮气产生器DFN-500是一种小型高纯度气体产生器,它产生气体的速率可到达500ml/min,且气体纯度99.99%,是化学和质料试验室的梦想设备。