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1200℃七温区独立控制管式炉OTF-1200X-VII选取独立的温控装置，可脱离炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可能在加热区内变成四段温度梯度，或变成较长的恒温区域。本机具有控温精度高，保温成果好，温度畛域大，温度均匀性高，温区多，可通气氛抽真空及平安信得过真实、操作简单等特征。

1200℃五温区独立控制管式炉OTF-1200X-V选取独立的温控装置，可开脱炉体进行温控操作，通过调节各个温区的温度，可能在加热区内形成四段温度梯度，或形成较长的恒温地域。本机具有控温精度高，保温成绩好，温度鸿沟大，温度均匀性高，温区多，可通氛围抽真空及平安靠得住、操作简单等特性。

1200℃五温区开启式管式炉OTF-1200X-V每个温区区别由独立的温控系统控制，通过调节各个温区的温度，可能在加热区内形成四段温度梯度，或形成长的恒温地域。本机用于高档院校、科研院所、工矿企业等测试或少数量出产，主要对电子陶瓷的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积等工艺。具有控温精度高，保温效果好，温度鸿沟大，温度平均性高，温区多，可通氛围抽真空及平安可靠、操作简单等特点。

1200℃三温区开启式管式炉OTF-1200X-Ⅲ-S每个温区差异由独立的温控编制控制，具有控温精度高，保温成就好，温度边界大，温度均匀性高，温区多等特性。本机可通气氛抽真空，操作简单，安好可靠。

1200℃开启式双温区管式炉OTF-1200X-IIZ高温度可抵达1200℃，并可通过调节两个独立的控温步伐，使炉管内温度场酿成一梯度。本机可用CVD方法来生长纳米材料和制作多样薄膜。

1200℃开启式管式炉OTF-1200X-5L是一款单温区管式炉，炉管直径Φ 5″，长1400mm ，Z高温度可来到1200℃。本机可在多样气氛保险下对样品进行热料理、沉积、烧结，是一款的尝试设备。