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1400℃小型管式炉GSL-1400X是小型高温管式炉，选择高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个密封法兰，控制系统选择高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置三十段升降温措施，Z高温度可达1400℃。

1400℃双温区真空氛围管式炉GSL-1400X-II以硅碳棒为加热元件，采取S型铂铑热电偶测温和518P温控仪主动控温。本机设有真空装置，可在多种氛围下工作，主要用于电子陶瓷产物的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积等工艺，出格相符批量出产利用。

1400℃三温区真空氛围管式炉GSL-1400X-Ⅲ以硅碳棒为加热元件，拔取S型铂铑热电偶测温和708P温控仪主动控温。本机设有真空装置，可在多种氛围下工作，主要用于电子陶瓷产品的预烧、烧结、镀膜、高温热解低温沉积等工艺，相符批量出产使用。

1500℃高温真空管式炉GSL-1500X是小型高温管式炉，采取高纯氧化铝刚玉炉管和硅碳棒加热元件，设有两个真密封法兰，控制系统采取高精度可控硅移相触发控制，其控温精度为±1℃，可设置三十段升降温步骤，Z高温度可达1500℃。

1500℃三温区开启式管式炉OTF-1500X-III是高温管式炉，Z高温度可达1500℃，三个温区用三个独立的温控体例控制，每个温区可以设置三十段升降温步伐，并设有过热和断偶保险功能，控温精度高达±1℃。本机相符于在气氛保险或真空境遇下对样品进行退火和烧结。