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真空镀膜机
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钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源挥发沉积室、真空排气编制、真空丈量编制、蒸发源、样品加热控温、电控编制、配气编制等部分组成。合用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单元进行新质料、新工艺薄膜查究工作,可用于大量量生产前的尝试工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等查究领域。
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